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            伯東 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產
            發布者:伯東企業(上海)有限公司  發布時間:2020-11-18 16:37:56  訪問次數:89

            在 DC/DC 混合電路生產各工藝環節中會有不希望出現的物理接觸面狀態變化、相變等, 對質量帶來不利影響, 對其生產中表面狀態的控制已成為必不可少的關鍵控制環節.

             

            某大型工廠在生產過程中采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產, 其主要目的是:

            1. 去除處理物體表面的外來物層, 如沾污層、氧化層等

            2. 改善物體表面狀態, 提高物體表面活性, 提高物體表面能等

            伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

            離子源型號

            RFICP220

            Discharge

            RFICP 射頻

            離子束流

            >800 mA

            離子動能

            100-1200 V

            柵極直徑

            20 cm Φ

            離子束

            聚焦, 平行, 散射

            流量

            10-40 sccm

            通氣

            Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

            典型壓力

            < 0.5m Torr

            長度

            30 cm

            直徑

            41 cm

            中和器

            LFN 2000

             

            客戶存在的問題:

            客戶的背銀芯片很容易發生銀的硫化及氧化,將直接影響芯片的貼裝質量.被硫化或氧化背銀的芯片采用導電膠粘接、氫氣燒結、再流焊貼裝均將有空洞率增大導致接觸電阻、熱阻增大和粘接強度下降等問題.

             

            解決方案:

            客戶采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 , 氬氣作為清洗氣體, 清洗時間200~300 s, 氣體流量40 sccm, 經過 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 產生的離子束清洗芯片背面

             

            運行結果:

            1. KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 有效去除背銀芯片硫化銀及氧化銀, 保證了芯片貼裝質量

            2. 可有效提高 DC/DC 混合電路組裝質量及可靠性

             

             

            伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

             

             

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            上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
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